技術(shù)介紹：

低溫等離子體凈化技術(shù)是近年來(lái)發(fā)展起來(lái)的廢氣治理新技術(shù)。等離子體被稱為物質(zhì)的第4種形態(tài)，由電子、離子、自由基和中性粒子組成。低溫等離子體有機(jī)氣體凈化就是利用介子放電所產(chǎn)生的等離子體以極快的速度反復(fù)轟擊廢氣中的異味氣體分子，去激活、電離、裂解廢氣中的各種成分，通過(guò)氧化等一些列復(fù)雜的化學(xué)反應(yīng)，打開(kāi)污染物分子內(nèi)部的化學(xué)鍵，使復(fù)雜的大分子污染物轉(zhuǎn)變?yōu)橐恍┬》肿拥陌踩镔|(zhì)（如二氧化碳和水），或使有毒有害物質(zhì)轉(zhuǎn)變?yōu)闊o(wú)毒無(wú)害或低毒低害的物質(zhì)。

其反應(yīng)機(jī)理為：

 等離子體化學(xué)反應(yīng)過(guò)程中，等離子體傳遞化學(xué)能量的反應(yīng)過(guò)程中能量的傳遞大致如下

   (1) 電場(chǎng)＋電子→高能電子

   (2) 高能電子＋分子(或原子)→(受激原子、受激基團(tuán)、游離基團(tuán)) 活性基團(tuán)

   (3) 活性基團(tuán)＋分子(原子)→生成物+熱

   (4) 活性基團(tuán)＋活性基團(tuán)→生成物+熱

過(guò)程一：高能電子直接轟擊

過(guò)程二：產(chǎn)生氧原子、臭氧、羥基自由基及小分子碎片

O2  +  2e  →  2O·

O2   +  O·  →  O3  +  e

H2O  +  2e → H·  +  HO·

H2O  +  O·+  e →  2HO·

H· +  O2  →  HO·  +  O

C(a+b)H(m+n)O(x+y) + 2 e → CaHmOx ·+ CbHnOy·

過(guò)程三：分子碎片氧化

CaHmOx  + HO·→ CO2 + H2O

CaHmOx  + O·→ CO2 + H2O

CaHmOx  + O2→ CO2 + H2O

CaHmOx  + O3→ CO2 + H2O

經(jīng)過(guò)低溫等離子凈化后，廢氣尚含有部分小分子的物質(zhì)及臭氧，采用水洗工藝可以對(duì)污染物進(jìn)行進(jìn)一步處理，同時(shí)減少?gòu)U氣中臭氧含量。相關(guān)反應(yīng)機(jī)理如下：

H2O  +  e → H·  +  HO· +  e

H·  +  O3 → O2  +  HO·

HO·  +  O3 → HO2·  +  O2

HO2·  +  O3 → HO·  +  O2

因此在此過(guò)程中，部分小分子有機(jī)物可進(jìn)一步被羥基自由基氧化而予以去除。